توسعه لایه نشانی اتمی با ایده گرفتن از دستگاه رطوبت ساز
توسعه لایه نشانی اتمی با ایده گرفتن از دستگاه رطوبت ساز
یکی از محققان ایده استفاده از فناوری اتمیزه‌‌سازی با اولتراسونیک برای تبخیر مواد شیمیایی مورد استفاده از ALD را هنگام خرید یک دستگاه مرطوب‌کننده خانگی به‌دست آورد.
ALD یک روش لایه نشانی اتمی فیلم سه‌بعدی است که نقش مهمی در صنعت میکروالکترونیک داشته و در واحد‌های پرازش مرکزی این صنعت برای تولید حافظه استفاده می‌شود.
در هر چرخه ALD لایه‌ای به عمق چند اتم رسوب می‌کند، یک فرآیند ALD شامل چندین تکرار چرخه لایه نشانی است.
یکنواختی فیلم‌های نازک به واکنش خود محدود کنندگی سطحی میان بخار پیش‌ماده و زیرلایه بستگی دارد.
ALD در حالی که مواد را به‌صورت یکنواخت روی ویفرهای بزرگ سیلیکونی رسوب می‌دهد، برای تولید با حجم بالا و ایجاد مورفولوژی نانومتری مناسب است.
این یک روش کلیدی برای تولید دستگاه‌های هوشمند قدرتمند و کوچک است.
دستگاه رطوبت‌سازهای خانگی از حرارت مستقیم با دمای بالا یا امواج اولتراسونیک در دمای اتاق برای تولید ذرات بخار آب استفاده می‌کنند.
روش دوم (اولتراسونیک) می‌تواند روشی ایمن و ساده برای تولید بخار از مواد شیمیایی باشد، به‌ویژه برای موادی که از نظر حرارتی ناپایدار هستند.
برای اثبات این مفهوم در آزمایشگاه تحقیقاتی ، آزمایش‌هایی طراحی شد و تمام مراحل کار تقریبا یک سال طول کشید.
با استفاده از این فناوری که محققان این پروژه ابداع کردند می‌توان موادی که از نظر حرارتی ناپایدار بوده و برای گرمایش مستقیم مناسب نیستند را برای ALD به کار گرفت.
گردآوری:کیوسک نانو
مطالب زیر را حتما بخوانید:
قوانین ارسال دیدگاه در سایت